.更新完成后，將向客戶出具EDI組件維護報告和EDI組件損壞判斷報告，幫助業(yè)主更好地使用EDI組件，幫助維護其純水系統(tǒng)。
、維修完成后，重新測試，工廠測試合格后48小時再測試給客戶。
可提供清洗劑及完整的清洗保養(yǎng)方案。
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工業(yè)EDI去離子水設(shè)備是目前比較的電滲析和離子交換技術(shù)，與普通去離子水設(shè)備相比，不僅提高了導(dǎo)電性，而且增強了離子從溶液到膜表面的遷移，提高了極限電流密度，是許多對水要求較高的行業(yè)的理想設(shè)備之一。
隨著這種純凈水設(shè)備的口感越來越好，EDI去離子水設(shè)備的應(yīng)用也越來越廣泛。
在維護中，需要注意哪些問題？
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工業(yè)EDI去離子水設(shè)備。
維修注意事項。
1、做好登記工作，方便日后備查；
2、設(shè)備完全智能化，但仍需不定期人工檢查設(shè)備運行情況；
3、設(shè)備的自潔環(huán)節(jié)至關(guān)重要，要定期檢查運行是否正常；
4.定期更換濾芯；
5、定期監(jiān)測反滲透主機運行時的壓力、流量、水質(zhì)指標(biāo)；
6、注意水質(zhì)，如果水質(zhì)太差，會導(dǎo)致設(shè)備損壞。

很多EDI模塊的操作人員或者管理人員并不知道如何維護EDI，所以小編就給大家分享一些關(guān)于EDI模塊維護的要點，供大家在一定程度上自己檢查和糾正。
對于EDI模塊的維護，我們需要根據(jù)其故障現(xiàn)象選擇相應(yīng)的維護方法。EDI設(shè)備的主要故障是出水量低、水質(zhì)差。
針對這兩種故障，有不同的維修點，具體如下:
1. 江宇環(huán)保EDI模塊低產(chǎn)水量維護要點:
為了修復(fù)EDI模塊的低產(chǎn)水量，我們需要分析是否是由于內(nèi)部污垢，閥門和開關(guān)狀態(tài)異常，管道或部件損壞，或其他原因造成的。
1. 干凈的EDI。
如果是由于EDI內(nèi)部結(jié)垢導(dǎo)致出水量少，則需要清洗;，樹脂需要清洗，因為樹脂往往容易形成污垢;其次，對每個管道的管道進(jìn)行清洗，以確保污垢被清除。
2. 調(diào)整閥門和開關(guān)狀態(tài)。
當(dāng)閥門沒有調(diào)整到正確的位置時(特別是控制出水的閥門)，會導(dǎo)致產(chǎn)水量減少，而各部件的開關(guān)，特別是流量開關(guān)，如果設(shè)置不正確，會導(dǎo)致產(chǎn)水量減少。
由此引起的產(chǎn)水量變低，只需調(diào)整閥門和開關(guān)狀態(tài)即可。
3.
維修或更換部件。
如果管道或其他部件出現(xiàn)問題，例如泄漏，則需要進(jìn)行維修;如果通過修理無法解決問題，則需要更換損壞嚴(yán)重的部件。
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羅門哈斯離子交換樹脂 主要型號

羅門哈斯拋光樹脂AMBERJET UP6150、UP6040、MB20、IRN160，混床樹脂IR120NA、IR100NA、IRA402CL ，軟化樹脂1000NA、4000CL、4200CL等樹脂



羅門哈斯Amberjet UP6150和組成它的樹脂是經(jīng)過后處理及再生以***離子的***平衡泄漏。發(fā)貨的樹脂其有的再生型態(tài)H型和OH型。在進(jìn)水得到充分的處理及合理的混床設(shè)計情況下，Amberjet UP6150的出水電阻率能達(dá)到18M.cm，其二氧化硅系統(tǒng)中單靠一個單元不可能完全***水質(zhì)的純度。事實已經(jīng)證明Amberjet UP6150在超純水系統(tǒng)中有能力生產(chǎn)出高純度的水。

EDI電源有什么作用？

　　EDI電源為配套水處理EDI模塊直流電源。無論是單模塊系統(tǒng)或多組模塊系統(tǒng)，該電源配套使用為一個EDI模塊配一組立電源系統(tǒng)的一對一工作方式，確保每個EDI模塊具有立的電源供給系統(tǒng)。該EDI電源的交流供電系統(tǒng)可以配裝交流控制部分，以實現(xiàn)與EDI前端設(shè)備的程序控制；EDI在水處理系統(tǒng)正常情況下才能實現(xiàn)交流供電。不致因斷水、壓力過高、進(jìn)水水質(zhì)差等情況下供電，這種情況下切斷 EDI 電源的交流電源。同時，該電源本身配置了斷水保護電路，在典型安裝 中，保護電路中連接一個或多個水流繼電器，當(dāng)沒有水時，系統(tǒng)或模塊 全部或個別缺水時，防止EDI電源送電。這個操作沒有切斷交流電源。EDI電源可以輸出不同的電壓、電流等級，為配套各種型號CEDI模塊提供選擇。

阻垢劑投加裝置報價

如何運行和維護阻垢劑加藥裝置呢？

1、清洗攪拌槽，廢水從槽出口排出。

2、檢查攪拌裝置安裝是否平穩(wěn)牢固。并檢查電源是否已打開。在投入使用分鐘，沒有噪音和運行平穩(wěn)是正常的。

3、檢查計量泵的安裝是否平穩(wěn)牢固?？纯措娫词欠耖_著。

4、檢查管子，頭發(fā)部件等是否安裝正確。

超純水在光學(xué)領(lǐng)域發(fā)揮著越來越重要的作用。超純水的水質(zhì)純度已成為影響光學(xué)器件產(chǎn)品質(zhì)量、產(chǎn)量和生產(chǎn)成本的重要因素之一。

　　光學(xué)領(lǐng)域在以下情形下需要使用超純水：

　　1、用于清潔的超純水。如果水中含有氯離子，電容器就會漏電。

　　2、在電子管的生產(chǎn)中，電子管的陰極涂有碳酸鹽。如果混入雜質(zhì)，會影響電子管的質(zhì)量。因此，應(yīng)使用超純水進(jìn)行液體制備。

　　3、在顯像管和陰極射線管的生產(chǎn)中，通過噴涂或沉淀法在熒光屏的內(nèi)壁上附著一層熒光物質(zhì)，該熒光物質(zhì)是由鋅或其他金屬的硫化物組成的熒光顆粒，并與硅酸鉀粘結(jié)，其制備也需要超純水。

4、在黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)的12道工序中，玻殼清洗、沉淀、潤濕、洗膜、管頸清洗等5道工序需要超純水。

　　5、液晶屏需要用超純水清洗，并與超純水混合。如果水中含有金屬離子、微生物和顆粒等雜質(zhì)，LCD電路將出現(xiàn)故障，影響LCD屏幕的質(zhì)量。

　　6、在晶體管和集成電路生產(chǎn)中，超純水主要用于清洗硅片，少量用于藥液配制、部分設(shè)備冷卻水、電鍍液配制等。

　　超純水設(shè)備已經(jīng)成為電子產(chǎn)品質(zhì)量安全的重要設(shè)備。根據(jù)光學(xué)元件用水要求，對超純水處理技術(shù)進(jìn)行了全自動 EDI超純水處理、預(yù)處理及反滲透處理，有效去除水中的各種鹽類和雜質(zhì)，進(jìn)一步改善水質(zhì)，使出水水質(zhì)滿足現(xiàn)場光學(xué)元件的用水要求。在原料選擇、設(shè)計技術(shù)、數(shù)據(jù)監(jiān)測、環(huán)境保護等方面均有較好的應(yīng)用前景。改進(jìn)工藝可提高系統(tǒng)回收率，降低能耗和運行費用。

EDI超純水設(shè)備的使用壽命與其使用方法密切相關(guān)，如果維護保養(yǎng)得當(dāng)?shù)脑?，各部件將承受相對較小的運行壓力，因此它的性能更穩(wěn)定且使用的壽命更長。那么在設(shè)備工作的期間，該如何長期去維護保養(yǎng)呢？下面讓我們來認(rèn)識一下吧。

維護保養(yǎng)的方法
1. 如果沒有閱讀用戶手冊并接受相關(guān)的操作培訓(xùn)，請不要嘗試操作EDI超純水設(shè)備，若不按本手冊步驟操作，可能會對設(shè)備造成嚴(yán)重的傷害。
2. 隨意拆卸EDI或拆除定位螺栓和操作和使用不當(dāng)?shù)脑?，可能?dǎo)致嚴(yán)重的人身傷害和保修服務(wù)故障。
3. 當(dāng)需要在EDI超純水設(shè)備在附近工作時，請斷開直流電源，以免觸電。操作過程中，用水取出所有熱量，檢查淡水進(jìn)水閥、濃水排放閥和極水排放閥的開啟情況，否則會燃燒EDI膜塊，造成不可彌補的損壞。緩慢調(diào)節(jié)閥門，避免水錘損壞膜塊。
4. 日常維護是在系統(tǒng)維護的基礎(chǔ)上，用戶在使用設(shè)備時應(yīng)標(biāo)準(zhǔn)化、制度化，并按照相關(guān)操作程序和工作計劃實施，這樣才能有效設(shè)備系統(tǒng)的長期穩(wěn)定運行。
5. EDI純水設(shè)備在工作的過程中，設(shè)備的表面經(jīng)常吸收大量的微生物、顆粒物等雜質(zhì)。清洗方法是維護過程中重要的步驟，不僅能夠恢復(fù)設(shè)備的性能，還可以延長設(shè)備的使用壽命。實際使用過程中根據(jù)進(jìn)水情況可調(diào)整系統(tǒng)的運行時間和清洗時間。