工業(yè)EDI去離子水設備是目前比較的電滲析和離子交換技術(shù)，與普通去離子水設備相比，不僅提高了導電性，而且增強了離子從溶液到膜表面的遷移，提高了極限電流密度，是許多對水要求較高的行業(yè)的理想設備之一。
隨著這種純凈水設備的口感越來越好，EDI去離子水設備的應用也越來越廣泛。
在維護中，需要注意哪些問題？
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很多EDI模塊的操作人員或者管理人員并不知道如何維護EDI，所以小編就給大家分享一些關(guān)于EDI模塊維護的要點，供大家在一定程度上自己檢查和糾正。
對于EDI模塊的維護，我們需要根據(jù)其故障現(xiàn)象選擇相應的維護方法。EDI設備的主要故障是出水量低、水質(zhì)差。
針對這兩種故障，有不同的維修點，具體如下:
1. 江宇環(huán)保EDI模塊低產(chǎn)水量維護要點:
為了修復EDI模塊的低產(chǎn)水量，我們需要分析是否是由于內(nèi)部污垢，閥門和開關(guān)狀態(tài)異常，管道或部件損壞，或其他原因造成的。
1. 干凈的EDI。
如果是由于EDI內(nèi)部結(jié)垢導致出水量少，則需要清洗;，樹脂需要清洗，因為樹脂往往容易形成污垢;其次，對每個管道的管道進行清洗，以確保污垢被清除。
2. 調(diào)整閥門和開關(guān)狀態(tài)。
當閥門沒有調(diào)整到正確的位置時(特別是控制出水的閥門)，會導致產(chǎn)水量減少，而各部件的開關(guān)，特別是流量開關(guān)，如果設置不正確，會導致產(chǎn)水量減少。
由此引起的產(chǎn)水量變低，只需調(diào)整閥門和開關(guān)狀態(tài)即可。
3.
維修或更換部件。
如果管道或其他部件出現(xiàn)問題，例如泄漏，則需要進行維修;如果通過修理無法解決問題，則需要更換損壞嚴重的部件。
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羅門哈斯離子交換樹脂 主要型號

羅門哈斯拋光樹脂AMBERJET UP6150、UP6040、MB20、IRN160，混床樹脂IR120NA、IR100NA、IRA402CL ，軟化樹脂1000NA、4000CL、4200CL等樹脂



羅門哈斯Amberjet UP6150和組成它的樹脂是經(jīng)過后處理及再生以***離子的***平衡泄漏。發(fā)貨的樹脂其有的再生型態(tài)H型和OH型。在進水得到充分的處理及合理的混床設計情況下，Amberjet UP6150的出水電阻率能達到18M.cm，其二氧化硅系統(tǒng)中單靠一個單元不可能完全***水質(zhì)的純度。事實已經(jīng)證明Amberjet UP6150在超純水系統(tǒng)中有能力生產(chǎn)出高純度的水。

IONPURE西門子EDI模塊 EDI系統(tǒng)IONPURE西門子EDI模塊IP-LXM45ZEDI模塊是出水量為5噸規(guī)格的模塊，是西門子公司針對工業(yè)水處理打造的EDI模塊產(chǎn)品。針對工業(yè)應用而開發(fā)西門子工業(yè)型膜堆利用連續(xù)電去離子技術(shù)（CEDI）生產(chǎn)高純水，其產(chǎn)水水質(zhì)等同甚至優(yōu)于混床出水。由純水室、濃水室、電極板等部分組成。

阻垢劑投加裝置報價

如何運行和維護阻垢劑加藥裝置呢？

1、清洗攪拌槽，廢水從槽出口排出。

2、檢查攪拌裝置安裝是否平穩(wěn)牢固。并檢查電源是否已打開。在投入使用分鐘，沒有噪音和運行平穩(wěn)是正常的。

3、檢查計量泵的安裝是否平穩(wěn)牢固?？纯措娫词欠耖_著。

4、檢查管子，頭發(fā)部件等是否安裝正確。

超純水在光學領域發(fā)揮著越來越重要的作用。超純水的水質(zhì)純度已成為影響光學器件產(chǎn)品質(zhì)量、產(chǎn)量和生產(chǎn)成本的重要因素之一。

　　光學領域在以下情形下需要使用超純水：

　　1、用于清潔的超純水。如果水中含有氯離子，電容器就會漏電。

　　2、在電子管的生產(chǎn)中，電子管的陰極涂有碳酸鹽。如果混入雜質(zhì)，會影響電子管的質(zhì)量。因此，應使用超純水進行液體制備。

　　3、在顯像管和陰極射線管的生產(chǎn)中，通過噴涂或沉淀法在熒光屏的內(nèi)壁上附著一層熒光物質(zhì)，該熒光物質(zhì)是由鋅或其他金屬的硫化物組成的熒光顆粒，并與硅酸鉀粘結(jié)，其制備也需要超純水。

4、在黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)的12道工序中，玻殼清洗、沉淀、潤濕、洗膜、管頸清洗等5道工序需要超純水。

　　5、液晶屏需要用超純水清洗，并與超純水混合。如果水中含有金屬離子、微生物和顆粒等雜質(zhì)，LCD電路將出現(xiàn)故障，影響LCD屏幕的質(zhì)量。

　　6、在晶體管和集成電路生產(chǎn)中，超純水主要用于清洗硅片，少量用于藥液配制、部分設備冷卻水、電鍍液配制等。

　　超純水設備已經(jīng)成為電子產(chǎn)品質(zhì)量安全的重要設備。根據(jù)光學元件用水要求，對超純水處理技術(shù)進行了全自動 EDI超純水處理、預處理及反滲透處理，有效去除水中的各種鹽類和雜質(zhì)，進一步改善水質(zhì)，使出水水質(zhì)滿足現(xiàn)場光學元件的用水要求。在原料選擇、設計技術(shù)、數(shù)據(jù)監(jiān)測、環(huán)境保護等方面均有較好的應用前景。改進工藝可提高系統(tǒng)回收率，降低能耗和運行費用。