電子工業(yè)用氬氣在生產(chǎn)過程中需要進行嚴格的質(zhì)量控制，以確保其純度達到水平。成分分析主要針對以下幾點：
純度測定：通過的氣體分析設(shè)備如質(zhì)譜儀、光譜儀等檢測氬氣中的主要雜質(zhì)含量，包括但不限于氧氣（O2）、氮氣（N2）、水蒸氣（H2O）、氫氣（H2）、一氧化碳（CO）、二氧化碳（CO2）以及其他可能存在的痕量氣體。
痕量元素分析：對于電子工業(yè)應(yīng)用而言，氬氣中即使是極其微小的金屬或非金屬污染物也可能對工藝造成影響，因此會進一步檢測是否存在諸如硅（Si）、硼（B）、磷（P）、砷（As）、銻（Sb）、鎵（Ga）、銦（In）、鉈（Tl）等半導體制造過程中常見的污染元素。
濕度和顆粒物檢測：確認氬氣中的水分含量以及是否有固體顆粒物，這兩者都可能在精密加工環(huán)境中引發(fā)問題。
包裝材料的影響：檢查氬氣是否受到儲存和運輸容器內(nèi)壁材料的污染，例如脫附出的有機物或其他化學物質(zhì)。
穩(wěn)定性評估：長期使用時，還需關(guān)注氬氣成分隨時間變化的情況，確保其穩(wěn)定性和持續(xù)可用性。
總結(jié)來說，電子工業(yè)用氬氣的成分分析是對其純度的測量和潛在污染物的全面篩查，確保滿足各類半導體器件制造、平板顯示、真空鍍膜等領(lǐng)域的嚴苛要求。
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