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深圳GSI鉭鈮礦檢測技術(shù)有限公司擁有大型的實驗室，配備精良的測試儀器，與華南地區(qū)各實驗室存在廣泛的合作關(guān)系。我們致力于以能力為客戶搭建一條、快速、優(yōu)惠的檢測認(rèn)證通道；幫助客戶減少開發(fā)風(fēng)險、縮短產(chǎn)品研發(fā)周期、降低產(chǎn)品成本；及時獲得各國市場的準(zhǔn)入證。
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利用磁控反應(yīng)濺射技術(shù)制備氮化鉭薄膜，對磁控反應(yīng)濺射制備氮化鉭薄膜的工藝參數(shù)（包括氮分壓比、加熱溫度、濺射壓力、濺射電流）用正交設(shè)計進(jìn)行優(yōu)化
氮化鉭為黑色六方結(jié)晶。相對密度為13.4，熔點為3090℃，顯微硬度為1100kg/mm2，熱導(dǎo)率為9.54W/(m·K)，電阻率為128μΩ·cm
氮化鉭為黃綠色結(jié)晶，屬型結(jié)晶，相對密度為15.6。晶格常數(shù)為a=0.4336nm，c=0.4150nm。熔點為2950℃，顯微硬度為3200kg/mm2，轉(zhuǎn)化點溫度為17.8K。
利用磁控反應(yīng)濺射技術(shù)制備了氮化鉭薄膜，利用ＴＥＭ、ＸＲＤ技術(shù)研究了薄膜的微觀結(jié)構(gòu)。研究結(jié)果表明：薄膜中多相共存；薄膜晶粒細(xì)?。ǎ保叮睿碜笥遥?；同時還發(fā)現(xiàn)，在一定工作壓力下，隨著氮分壓的提高，氮化物晶粒形成的取向改變，即平行于基體表面生長的晶面會有改變。
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