真空均質(zhì)乳化機(jī)是集混合、分散、均質(zhì)、乳化及吸粉多功能于一體的成套系統(tǒng)，帶有電控系統(tǒng)，也可配合外圍油、水相罐，真空，加熱/冷卻系統(tǒng)等使用。是生產(chǎn)藥用軟膏、膏霜、乳液等的設(shè)備。

物料在均質(zhì)鍋內(nèi)通過(guò)鍋內(nèi)攪拌框上的聚四氟乙烯刮板(刮板始終迎合鍋體內(nèi)壁，掃凈掛壁粘料)，不斷產(chǎn)生新界面，再經(jīng)過(guò)框式攪拌器及與其反向的攪拌葉，將物料剪斷、壓縮、折疊，使其攪拌、混合而向下流往鍋體下方的均質(zhì)器處，再通過(guò)高速旋轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)子與定子之間所產(chǎn)生的強(qiáng)力的剪斷、沖擊、亂流等過(guò)程使物料在剪切縫中被切割，迅速破碎成200～2μm的微粒。物料微?；?、乳化、混合、調(diào)勻、分散等可于短時(shí)間內(nèi)完成。

分散盤(pán)帶動(dòng)研磨介質(zhì)高速運(yùn)動(dòng)而產(chǎn)生摩擦和剪切，使物料得到研磨和分散。研磨室采用強(qiáng)制冷卻。有臥式砂磨機(jī)及立式砂磨機(jī)之分，如圓筒形環(huán)隙式砂磨機(jī)和塔式砂磨機(jī)等。一般為濕式研磨。物料在旋轉(zhuǎn)研磨盤(pán)作用下與研磨體混合并旋轉(zhuǎn)，經(jīng)與研磨體之間及與粉碎室各部分之間產(chǎn)生的研磨、剪切而粉碎。有臥式砂磨機(jī)及立式砂磨機(jī)之分，如圓筒形環(huán)隙式砂磨機(jī)和塔式砂磨機(jī)等。一般為濕式研磨。

砂磨機(jī)是一種水平濕式連續(xù)性生產(chǎn)之超微粒分散機(jī)。將預(yù)先攪拌妥之原料送入主機(jī)之研磨槽，研磨槽內(nèi)填充適量之研磨媒體，如玻璃珠等經(jīng)由分散葉片高速轉(zhuǎn)動(dòng)，賦予研磨媒體以足夠之動(dòng)能，與被分散之顆粒撞擊產(chǎn)生剪力，達(dá)到分散的效果，再經(jīng)由特殊之分離裝置，將被分散物與研磨媒體分離排出。因?yàn)椴槐叵袢凉L筒一樣須要高度的操作技巧，即可得到均一而優(yōu)良的品質(zhì)，又可大量連續(xù)生產(chǎn)，因此既可提又可降低成本，亦可適用于高粘度物質(zhì)之分散，因之對(duì)油漆、油墨、醫(yī)藥、食品、化妝品、農(nóng)藥等工業(yè)均可應(yīng)用。

研磨介質(zhì)填充率從40%增加至75%時(shí)，運(yùn)行電流曲線呈上升趨勢(shì)，反映砂磨機(jī)中的研磨介質(zhì)得到充分?jǐn)噭?dòng)，能量需求變化大；填充率在75%-85%，運(yùn)行電流曲線變化平穩(wěn)，反映砂磨機(jī)中的介質(zhì)達(dá)到一個(gè)平衡點(diǎn)，能量需求穩(wěn)定；填充率大于85%，運(yùn)行電流曲線變化呈下降趨勢(shì)，反映砂磨機(jī)中的研磨介質(zhì)過(guò)量，研磨介質(zhì)與分散盤(pán)之間有滑動(dòng)現(xiàn)象，分散盤(pán)不能帶動(dòng)所有研磨介質(zhì)運(yùn)動(dòng)，能量需求降低。因此，根據(jù)砂磨機(jī)的電流變化曲線可知，研磨介質(zhì)適宜的填充率為80%。[1]
臥式砂磨機(jī)是一種水平濕式連續(xù)性生產(chǎn)的超微粒分散機(jī)， 其操作簡(jiǎn)單，研磨。
操作方法是將要研磨的物料與研磨 介質(zhì)(介質(zhì)的直徑為3/32″~3/32″,通常使用研磨介質(zhì)的類型有：鐵素合金、玻璃、陶瓷、氧化鋯、純鋯等)一起放入帶有夾套 的靜止研磨缸中，通過(guò)攪拌臂和分散葉片的高速作用，賦予研 磨介質(zhì)足夠的動(dòng)能，借助高速運(yùn)動(dòng)的介質(zhì)對(duì)物料施加剪切力和沖擊力，從而獲得佳分散、研磨效果。
特殊設(shè)計(jì)的雙速啟動(dòng)矩力馬達(dá)，無(wú)需聯(lián)軸器。在加料和卸 料的時(shí)候用低速，研磨時(shí)用高速。
特殊的分離裝置，將被分散物與研磨介質(zhì)分離排出，不必 象三滾機(jī)一樣需要高度的操作技巧即可得到均衡優(yōu)良的品質(zhì)，可實(shí)現(xiàn)大批量連續(xù)式生產(chǎn)，大大提高了品質(zhì)，又大幅降低了成本。