化學組分上的均勻性： 就是說在薄膜中，化合物的原子組分會由于尺度過小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過程不科學，那么實際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學成分，這也是真空鍍膜的技術含量所在。 具體因素也在下面給出。

濺射鍍膜又分為很多種，總體看，與蒸發(fā)鍍膜的不同點在于濺射速率將成為主要參數(shù)之一。濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對較差（因為是脈沖濺射），晶向（外沿）生長的控制也比較一般。

多功用磁控濺射鍍膜系統(tǒng)，由真空鍍膜系統(tǒng)和手套箱系統(tǒng)集成而成，可在高真空蒸鍍腔室中完結薄膜蒸鍍，并在手套箱高純惰性氣體氣氛下進行樣品的寄存、制備以及蒸鍍后樣品的檢測。蒸騰鍍膜與手套箱組合，實現(xiàn)蒸鍍、封裝、測驗等工藝全封閉制造，使整個薄膜生長和器材制備過程高度集成在一個完整的可控環(huán)境氣氛的系統(tǒng)中，消除有機大面積電路制備過程中大氣環(huán)境中不穩(wěn)定因素影響，保障了高功用、大面積有機光電器材和電路的制備。

真空鍍膜中常用的塑料，ABS是早運用的，是一起滿意三個條件的塑料，A代表丙烯腈，B代表丁二烯，S代表苯乙烯，塑料中含有以上三種物質的便是ABS塑料了，ABS鍍上膜層后，能夠很好的發(fā)揮其機械功能、抗沖擊性，依靠其硬度大，耐磨損，本錢不高，常常被用于替代某些金屬機械零部件，也用于出產(chǎn)家用電器的外殼，但由于含有丁二烯，ABS不能在室外運用，否則會變色。

真空鍍膜機應在真空過程前對真空材料進行清洗，去除工件或系統(tǒng)材料表面的污染物;車燈鍍膜機零部件表面的清潔也是很有必要的，因為污染物引起的氣體和蒸氣源不僅會使真空系統(tǒng)無法獲得所需的真空度。而且由于污染物的存在，還會影響真空部件連接處的強度和密封性能。

真空鍍膜機的污染物可以定義為“任何一種無用的物質或能量”。多弧離子鍍膜機根據(jù)污染物的物理狀態(tài)可分為固態(tài)、氣態(tài)和液態(tài)，污染物以薄膜或顆粒的形式存在。就其化學特性而言，它可以是離子態(tài)或共價態(tài)，無機態(tài)或有機態(tài)。

前期清洗真空鍍膜機可以減少很多麻煩，避免濺射鍍膜機的很多小問題，對真空鍍膜機的工作效率和鍍膜質量有非常積極的作用。它可以大大提高真空系統(tǒng)中所有壁面和其他部件表面在各種工況下的工作穩(wěn)定性。這些工作條件包括:高溫、低溫以及電子、離子、光子或重粒子的發(fā)射和轟擊。
真空是支撐真空鍍膜機運行的環(huán)境，尤其是需要高真空度的設備。通常，我們需要達到高的真空度，而抽氣系統(tǒng)的功能是不可缺少的。但是除了抽氣系統(tǒng)之外，真空鍍膜設備的操作還有一點，就是工件的脫氣。有些工件內部有大量氣體和水分，在設備加熱時會排入真空室，降低真空度。更有甚者，有些氣體含有有毒成分，直接破壞真空室內部機械結構，導致設備無法正常運行。
與傳統(tǒng)的鍍膜方法相比，真空鍍膜屬于干法鍍膜，其主要方法有以下幾種:

　　1.真空蒸發(fā)

　　其原理是在真空條件下，用蒸發(fā)器加熱蒸發(fā)材料使其蒸發(fā)或升華，蒸發(fā)的離子流直接射向基片，在基片上沉積固體薄膜。

　　2.濺射涂層

　　濺射鍍膜是一種真空條件，在陰極施加2000V高壓激發(fā)輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極噴出原子。濺射的原子通過惰性氣氛沉積在襯底上形成薄膜。17_副本.jpg

　　3.離子電鍍法

　　即干式螺桿真空泵制造商已經(jīng)推出的真空離子涂層。它是在上述兩種真空鍍膜技術的基礎上發(fā)展起來的，所以具有兩者的工藝特點。在真空條件下，工作氣體或蒸發(fā)物質(膜材料)通過氣體放電被部分電離，蒸發(fā)物質或其反應物在離子轟擊下沉積在基片表面。在成膜的過程中，襯底總是受到高能粒子的轟擊，這使得它非常干凈。

　　4.真空卷繞涂層

　　真空鍍膜是通過物理氣相沉積在柔性基板上進行連續(xù)鍍膜的技術，以實現(xiàn)柔性基板的某些功能性和裝飾性。