化學(xué)組分上的均勻性： 就是說在薄膜中，化合物的原子組分會(huì)由于尺度過小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過程不科學(xué)，那么實(shí)際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分，這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。 具體因素也在下面給出。

在鍍膜領(lǐng)域，鍍膜后薄膜樣品的厚度是影響薄膜功用的一個(gè)重要因素。因此，當(dāng)點(diǎn)評(píng)某薄膜樣品的功用時(shí)，需求檢測(cè)該薄膜樣品不同厚度下的功用。對(duì)于真空鍍膜的情形，這往往需求進(jìn)行多次試樣的制備。而這樣多次制備樣品存在兩個(gè)問題：，不同次生長(zhǎng)的樣品，儀器的狀況不同，以至于影響薄膜樣品功用的因素可能不僅僅是厚度;其次，真空鍍膜試驗(yàn)裝取樣品需求重新進(jìn)行真空的獲得，十分耗時(shí)。增加了出產(chǎn)和檢測(cè)的本錢。

真空鍍膜中常用的塑料，ABS是早運(yùn)用的，是一起滿意三個(gè)條件的塑料，A代表丙烯腈，B代表丁二烯，S代表苯乙烯，塑料中含有以上三種物質(zhì)的便是ABS塑料了，ABS鍍上膜層后，能夠很好的發(fā)揮其機(jī)械功能、抗沖擊性，依靠其硬度大，耐磨損，本錢不高，常常被用于替代某些金屬機(jī)械零部件，也用于出產(chǎn)家用電器的外殼，但由于含有丁二烯，ABS不能在室外運(yùn)用，否則會(huì)變色。

真空鍍膜機(jī)的污染物可以定義為“任何一種無用的物質(zhì)或能量”。多弧離子鍍膜機(jī)根據(jù)污染物的物理狀態(tài)可分為固態(tài)、氣態(tài)和液態(tài)，污染物以薄膜或顆粒的形式存在。就其化學(xué)特性而言，它可以是離子態(tài)或共價(jià)態(tài)，無機(jī)態(tài)或有機(jī)態(tài)。

暴露在空氣中的真空鍍膜機(jī)表面容易受到污染。污染源有很多，初的污染通常是地表本身的一部分。吸附現(xiàn)象、化學(xué)反應(yīng)、浸出干燥過程、機(jī)械處理、擴(kuò)散和偏析過程都增加了各種組分的表面污染物。真空材料表面的常見污染物如下。

　　①油脂:潤(rùn)滑劑、切削液、真空油脂等。在加工、組裝和操作過程中被污染;

　?、谒?操作時(shí)的手汗、吹氣時(shí)的水蒸氣、唾液等。

　　③表面氧化物:材料長(zhǎng)時(shí)間放置在空氣中或潮濕空氣中形成的表面氧化物;

　?、芩?、堿、鹽類物質(zhì):清洗時(shí)的殘留物質(zhì)、手汗、水中的礦物質(zhì)等。

　?、莪h(huán)境空氣中的拋光殘?jiān)⒒覊m和其他有機(jī)物等。

真空是支撐真空鍍膜機(jī)運(yùn)行的環(huán)境，尤其是需要高真空度的設(shè)備。通常，我們需要達(dá)到高的真空度，而抽氣系統(tǒng)的功能是不可缺少的。但是除了抽氣系統(tǒng)之外，真空鍍膜設(shè)備的操作還有一點(diǎn)，就是工件的脫氣。有些工件內(nèi)部有大量氣體和水分，在設(shè)備加熱時(shí)會(huì)排入真空室，降低真空度。更有甚者，有些氣體含有有毒成分，直接破壞真空室內(nèi)部機(jī)械結(jié)構(gòu)，導(dǎo)致設(shè)備無法正常運(yùn)行。