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厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學(xué)薄膜的尺度上看（也就是1/10波長作為單位，約為100A），真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當(dāng)好，可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內(nèi)，也就是說對于薄膜的光學(xué)特性來說，真空鍍膜沒有任何障礙。 但是如果是指原子層尺度上的均勻度，也就是說要實現(xiàn)10A甚至1A的表面平整，具體控制因素下面會根據(jù)不同鍍膜給出詳細(xì)解釋。
蒸發(fā)鍍膜與真空手套箱組合，實現(xiàn)蒸鍍、封裝、測試等工藝全封閉制作，使整個薄膜生長和器件制備過程高度集成在一個完整的可控環(huán)境氛圍的系統(tǒng)中，消除有機(jī)大面積電路制備過程中大氣環(huán)境中不穩(wěn)定因素影響，保障了、大面積有機(jī)光電器件和電路的制備。
真空鍍膜系統(tǒng)用途：主要用于太陽能電池鈣鈦礦、OLED和PLED、半導(dǎo)體制備等實驗研究與應(yīng)用?，F(xiàn)有的真空鍍膜機(jī)，主要用于一些放氣量較少的普通玻璃上鍍膜，由于大面積有機(jī)玻璃放氣量較大，熱變形溫度低，剛性低，因此現(xiàn)有的真空鍍膜機(jī)無法鍍制大面積有機(jī)玻璃。現(xiàn)有的鍍膜機(jī)蒸發(fā)源間呈正方形分布，這樣鍍出的膜層均勻性差，無法大面積有機(jī)玻璃在鍍制過程中不變形。為了克服現(xiàn)有技術(shù)之不足，提供一種真空鍍膜系統(tǒng)，本系統(tǒng)由真空鍍膜系統(tǒng)和真空手套箱系統(tǒng)集成而成，可在高真空蒸鍍腔室中完成薄膜蒸鍍，并在手套箱高純惰性氣體氛圍下進(jìn)行樣品的存放、制備以及蒸鍍后樣品的檢測。
蒸發(fā)鍍膜與真空手套箱組合，實現(xiàn)蒸鍍、封裝、測試等工藝全封閉制作，使整個薄膜生長和器件制備過程高度集成在一個完整的可控環(huán)境氛圍的系統(tǒng)中，消除有機(jī)大面積電路制備過程中大氣環(huán)境中不穩(wěn)定因素影響，保障了、大面積有機(jī)光電器件和電路的制備。
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