化學(xué)組分上的均勻性： 就是說在薄膜中，化合物的原子組分會由于尺度過小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過程不科學(xué)，那么實際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分，這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。 具體因素也在下面給出。

在鍍膜領(lǐng)域，鍍膜后薄膜樣品的厚度是影響薄膜功用的一個重要因素。因此，當(dāng)點評某薄膜樣品的功用時，需求檢測該薄膜樣品不同厚度下的功用。對于真空鍍膜的情形，這往往需求進行多次試樣的制備。而這樣多次制備樣品存在兩個問題：，不同次生長的樣品，儀器的狀況不同，以至于影響薄膜樣品功用的因素可能不僅僅是厚度;其次，真空鍍膜試驗裝取樣品需求重新進行真空的獲得，十分耗時。增加了出產(chǎn)和檢測的本錢。

塑膠具有易成型，價格便宜，質(zhì)量輕，防腐蝕等長處，但塑膠的缺陷也比較，其缺陷也制約了塑膠的應(yīng)用規(guī)模，如不美觀、易老化、機械功能差、易碎易變型、耐熱差等。經(jīng)過真空鍍膜機的應(yīng)用，使塑膠外表鍍上特定膜層，東莞匯成真空自主研制出產(chǎn)的蒸發(fā)真空鍍膜設(shè)備將鍍膜機資料和塑膠產(chǎn)呂結(jié)合，大大提高了塑膠制品的物理、化學(xué)功能。

真空鍍膜機的污染物可以定義為“任何一種無用的物質(zhì)或能量”。多弧離子鍍膜機根據(jù)污染物的物理狀態(tài)可分為固態(tài)、氣態(tài)和液態(tài)，污染物以薄膜或顆粒的形式存在。就其化學(xué)特性而言，它可以是離子態(tài)或共價態(tài)，無機態(tài)或有機態(tài)。

真空是支撐真空鍍膜機運行的環(huán)境，尤其是需要高真空度的設(shè)備。通常，我們需要達到高的真空度，而抽氣系統(tǒng)的功能是不可缺少的。但是除了抽氣系統(tǒng)之外，真空鍍膜設(shè)備的操作還有一點，就是工件的脫氣。有些工件內(nèi)部有大量氣體和水分，在設(shè)備加熱時會排入真空室，降低真空度。更有甚者，有些氣體含有有毒成分，直接破壞真空室內(nèi)部機械結(jié)構(gòu)，導(dǎo)致設(shè)備無法正常運行。

在鍍膜的過程中，由于工件內(nèi)氣體的受熱膨脹，很容易使已經(jīng)鍍膜的薄膜開裂。當(dāng)然，這種情況的概率取決于工件本身的物理性質(zhì)。比如容易膨脹的，比如塑料，概率就比較高，而對于堅硬的材料，比如金屬，概率就比較低，但也不能忽略。因此，工件的除氣是非常必要的。