磁控濺射原理：鋯靶在被濺射的靶極(陰極)與陽極之間加一個正交磁場和電場，在高真空室中充入所需要的惰性氣體(通常為Ar氣)，磁鐵在靶材料表面形成250～350高斯的磁場，同高壓電場組成正交電磁場。在電場的作用下，Ar氣電離成正離子和電子，靶上加有一定的負高壓，從靶極發(fā)出的電子受磁場的作用與工作氣體的電離幾率，在陰極附近形成高密度的等離子體，Ar離子在洛侖茲力的作用下加速飛向靶面，以很高的速度轟擊靶面，使靶上被濺射出來的原子遵循動量轉(zhuǎn)換原理以較高的動能脫離靶面飛向基片淀積成膜。 磁控濺射一般分為二種：支流濺射和射頻濺射，其中支流濺射設備原理簡單，在濺射金屬時，其速率也快。而射頻濺射的使用范圍更為廣泛，除可濺射導電材料外，也可濺射非導電的材料，同時還司進行反應濺射制備氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。若射頻的頻率提高后就成為微波等離子體濺射，常用的有電子回旋共振(ECR)型微波等離子體濺射。

化工反應釜的工作方式：
一般與瑭玻璃鋼反應釜配合，作蒸汽加熱或水冷卻之用。管內(nèi)大壓力根據(jù)臂厚不同可承受壓力６～２０㎏，換熱面積按設計要求制作。
1、耐用程度遠比（搪玻璃反應釜）高出３－５倍（一但搪玻璃釜內(nèi)膽磕碰，掉釉，壽命只有4-12個月）
2、加熱或冷卻效率比（搪玻璃反應釜）在單位容器，單位時間快6個小時，也就是說如果改用鋯盤管換熱，兩臺釜可以出來三臺的產(chǎn)量。
3、我公司有豐富的改裝，維護，施工經(jīng)驗。
如果有對此產(chǎn)品有興趣的朋友可以給我電話，一起探討，用鋯材的換熱器價格肯定比搪玻璃的貴，比方一套6300L的釜，使用R60702鋯材盤管換熱器價格大概15W，但是經(jīng)過我公司改裝過的和新上這種設備的客戶在使用后，對本產(chǎn)品都是肯定的，貴的值得，貴的有道理，不論是在經(jīng)濟上（假以時日鋯換熱器還是比搪玻璃經(jīng)濟），還是在生產(chǎn)（產(chǎn)量），維護上（零維護），比使用搪玻璃換熱的要好的多

鋯管-鋯板-鋯帶-鋯棒-鋯絲
牌號：Zr－0、Zr－2、R60702，R60705、Zr－4；
規(guī)格： 0.03～50×200～600×Lmm 0.5～100×Lmm；
種類：軋制、鍛制、拉制；標準：Q／BS6531－91、GB8769－88、Q／BS6331－91、Q／BS6431－91。