化學(xué)組分上的均勻性： 就是說在薄膜中，化合物的原子組分會由于尺度過小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過程不科學(xué)，那么實際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分，這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。 具體因素也在下面給出。

濺射鍍膜又分為很多種，總體看，與蒸發(fā)鍍膜的不同點在于濺射速率將成為主要參數(shù)之一。濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對較差（因為是脈沖濺射），晶向（外沿）生長的控制也比較一般。

關(guān)于真空鍍膜機(jī)所用的塑料材料，需要與膜層結(jié)合性高，放氣量小，受熱穩(wěn)定，一起滿意這三個條件的塑料資料是十分少的，但塑料資料在工業(yè)出產(chǎn)中的應(yīng)用卻十分廣泛，所以塑料真空鍍膜機(jī)的應(yīng)用也隨之發(fā)展起來，為了使更多的塑料投入到真空鍍膜中，常常經(jīng)過各種方法改善。

真空鍍膜中常用的塑料，ABS是早運用的，是一起滿意三個條件的塑料，A代表丙烯腈，B代表丁二烯，S代表苯乙烯，塑料中含有以上三種物質(zhì)的便是ABS塑料了，ABS鍍上膜層后，能夠很好的發(fā)揮其機(jī)械功能、抗沖擊性，依靠其硬度大，耐磨損，本錢不高，常常被用于替代某些金屬機(jī)械零部件，也用于出產(chǎn)家用電器的外殼，但由于含有丁二烯，ABS不能在室外運用，否則會變色。

前期清洗真空鍍膜機(jī)可以減少很多麻煩，避免濺射鍍膜機(jī)的很多小問題，對真空鍍膜機(jī)的工作效率和鍍膜質(zhì)量有非常積極的作用。它可以大大提高真空系統(tǒng)中所有壁面和其他部件表面在各種工況下的工作穩(wěn)定性。這些工作條件包括:高溫、低溫以及電子、離子、光子或重粒子的發(fā)射和轟擊。

真空是支撐真空鍍膜機(jī)運行的環(huán)境，尤其是需要高真空度的設(shè)備。通常，我們需要達(dá)到高的真空度，而抽氣系統(tǒng)的功能是不可缺少的。但是除了抽氣系統(tǒng)之外，真空鍍膜設(shè)備的操作還有一點，就是工件的脫氣。有些工件內(nèi)部有大量氣體和水分，在設(shè)備加熱時會排入真空室，降低真空度。更有甚者，有些氣體含有有毒成分，直接破壞真空室內(nèi)部機(jī)械結(jié)構(gòu)，導(dǎo)致設(shè)備無法正常運行。