鍍膜設(shè)備應(yīng)該在高真空下工作，真空值的優(yōu)劣可以直接危害表層的鍍膜的質(zhì)量。有時(shí)鍍膜設(shè)備的真空值抽不出來或是真空值不太好，可能是連接頭松脫或是有焊接發(fā)生脫焊。傳統(tǒng)式的氣密性試驗(yàn)方式應(yīng)該鍍膜設(shè)備關(guān)機(jī)，充氮，再在猜測(cè)有漏的位置涂上肥皂泡，整個(gè)過程用時(shí)費(fèi)事極易錯(cuò)判，針對(duì)微小的泄露沒法檢驗(yàn)。諾益氦質(zhì)譜檢漏儀運(yùn)用氦氣做為示蹤氣體，小漏率低于5E-13Pam3/s，安全環(huán)保，檢漏時(shí)無需關(guān)機(jī)，立即在機(jī)械泵的旁通連接測(cè)漏儀便可以迅速有效的進(jìn)行檢驗(yàn)了。

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真空鍍膜機(jī)為什么會(huì)越來越慢這種情況有兩種可能
1、設(shè)備內(nèi)部由于長(zhǎng)時(shí)間鍍膜導(dǎo)致有些臟東西在加熱時(shí)放氣，所以這種情況需要維護(hù)，即把內(nèi)部屏蔽板拆下噴砂或脫膜，清理。
2、由微小的滲漏，沒有發(fā)現(xiàn)，尤其是各個(gè)傳動(dòng)部位密封，這種情況就是比較難查，如果沒有檢漏儀，就只能一部分一部分拆卸或用盲板逐步替換予以排除。也有人用注射針頭注射酒精觀察真空計(jì)的變化檢查，但一般漏的不大時(shí)不好判斷，至于你說的真空1.9的那個(gè)其實(shí)也并不高，還有就是漏率是按照你的設(shè)備體積以及單位時(shí)間的真空下降程度來算的不是按照真空值計(jì)算的，比如你的真空泵抽速好，抽氣能力強(qiáng)就有可能克服微漏而使真空顯示較高的數(shù)值。

真空鍍膜機(jī)的工作原理如下：
在鍍膜領(lǐng)域，鍍膜后薄膜樣品的厚度是影響薄膜性能的一個(gè)重要因素。因此，當(dāng)評(píng)價(jià)某薄膜樣品的性能時(shí)，需要檢測(cè)該薄膜樣品不同厚度下的性能。對(duì)于真空鍍膜的情形，這往往需要進(jìn)行多次試樣的制備。而這樣多次制備樣品存在兩個(gè)問題：，不同次生長(zhǎng)的樣品，儀器的狀態(tài)不同，以至于影響薄膜樣品性能的因素可能不僅僅是厚度；其次，真空鍍膜實(shí)驗(yàn)裝取樣品需要重新進(jìn)行真空的獲得，非常耗時(shí)。增加了生產(chǎn)和檢測(cè)的成本。
因此，提供一種多功能磁控濺射鍍膜系統(tǒng)，本系統(tǒng)由真空鍍膜系統(tǒng)和手套箱系統(tǒng)集成而成，可在高真空蒸鍍腔室中完成薄膜蒸鍍，并在手套箱高純惰性氣體氛圍下進(jìn)行樣品的存放、制備以及蒸鍍后樣品的檢測(cè)。蒸發(fā)鍍膜與手套箱組合，實(shí)現(xiàn)蒸鍍、封裝、測(cè)試等工藝全封閉制作，使整個(gè)薄膜生長(zhǎng)和器件制備過程高度集成在一個(gè)完整的可控環(huán)境氛圍的系統(tǒng)中，消除有機(jī)大面積電路制備過程中大氣環(huán)境中不穩(wěn)定因素影響，保障了、大面積有機(jī)光電器件和電路的制備。

真空鍍膜工藝在傳感器方面的運(yùn)用在傳感器中，多選用那些電氣性質(zhì)相關(guān)于物理量、化學(xué)量及其變化來說，極為敏感的半導(dǎo)體資料。此外，其中大多數(shù)運(yùn)用的是半導(dǎo)體的外表、界面的性質(zhì)，需求盡量增大其面積，且能工業(yè)化、低報(bào)價(jià)制造、因而選用薄膜的狀況許多。

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