化學(xué)組分上的均勻性： 就是說在薄膜中，化合物的原子組分會(huì)由于尺度過小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過程不科學(xué)，那么實(shí)際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分，這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。 具體因素也在下面給出。

濺射鍍膜又分為很多種，總體看，與蒸發(fā)鍍膜的不同點(diǎn)在于濺射速率將成為主要參數(shù)之一。濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對較差（因?yàn)槭敲}沖濺射），晶向（外沿）生長的控制也比較一般。

關(guān)于真空鍍膜機(jī)所用的塑料材料，需要與膜層結(jié)合性高，放氣量小，受熱穩(wěn)定，一起滿意這三個(gè)條件的塑料資料是十分少的，但塑料資料在工業(yè)出產(chǎn)中的應(yīng)用卻十分廣泛，所以塑料真空鍍膜機(jī)的應(yīng)用也隨之發(fā)展起來，為了使更多的塑料投入到真空鍍膜中，常常經(jīng)過各種方法改善。

塑膠具有易成型，價(jià)格便宜，質(zhì)量輕，防腐蝕等長處，但塑膠的缺陷也比較，其缺陷也制約了塑膠的應(yīng)用規(guī)模，如不美觀、易老化、機(jī)械功能差、易碎易變型、耐熱差等。經(jīng)過真空鍍膜機(jī)的應(yīng)用，使塑膠外表鍍上特定膜層，東莞匯成真空自主研制出產(chǎn)的蒸發(fā)真空鍍膜設(shè)備將鍍膜機(jī)資料和塑膠產(chǎn)呂結(jié)合，大大提高了塑膠制品的物理、化學(xué)功能。

暴露在空氣中的真空鍍膜機(jī)表面容易受到污染。污染源有很多，初的污染通常是地表本身的一部分。吸附現(xiàn)象、化學(xué)反應(yīng)、浸出干燥過程、機(jī)械處理、擴(kuò)散和偏析過程都增加了各種組分的表面污染物。真空材料表面的常見污染物如下。

　　①油脂:潤滑劑、切削液、真空油脂等。在加工、組裝和操作過程中被污染;

　?、谒?操作時(shí)的手汗、吹氣時(shí)的水蒸氣、唾液等。

　?、郾砻嫜趸?材料長時(shí)間放置在空氣中或潮濕空氣中形成的表面氧化物;

　?、芩?、堿、鹽類物質(zhì):清洗時(shí)的殘留物質(zhì)、手汗、水中的礦物質(zhì)等。

　?、莪h(huán)境空氣中的拋光殘?jiān)⒒覊m和其他有機(jī)物等。

工件常用的除氣方法是烘烤。工件中的氣體和水分通過加熱排出。涂裝前，工件邊抽邊加熱。當(dāng)工件中的水分和氣體因受熱而釋放出來時(shí)，它們與真空室中的氣體一起被真空泵抽出。針對不同的工件采取不同的脫氣措施，可以有效控制工件內(nèi)部氣體和水的排放，提高涂層的穩(wěn)定性和均勻性。