濺射鍍膜又分為很多種，總體看，與蒸發(fā)鍍膜的不同點在于濺射速率將成為主要參數(shù)之一。濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對較差（因為是脈沖濺射），晶向（外沿）生長的控制也比較一般。

多功用磁控濺射鍍膜系統(tǒng)，由真空鍍膜系統(tǒng)和手套箱系統(tǒng)集成而成，可在高真空蒸鍍腔室中完結(jié)薄膜蒸鍍，并在手套箱高純惰性氣體氣氛下進行樣品的寄存、制備以及蒸鍍后樣品的檢測。蒸騰鍍膜與手套箱組合，實現(xiàn)蒸鍍、封裝、測驗等工藝全封閉制造，使整個薄膜生長和器材制備過程高度集成在一個完整的可控環(huán)境氣氛的系統(tǒng)中，消除有機大面積電路制備過程中大氣環(huán)境中不穩(wěn)定因素影響，保障了高功用、大面積有機光電器材和電路的制備。

眾所周知，真空鍍膜機的運行狀態(tài)將直接影響鍍膜產(chǎn)品的質(zhì)量。為了更好地運行，有必要對真空鍍膜機進行維護。那么，你知道真空鍍膜機維護的意義嗎?　　設(shè)備的日常維護就是發(fā)現(xiàn)生產(chǎn)中的異常現(xiàn)象，盡早解決。如果發(fā)現(xiàn)機械泵的油量減少，應該添加。不要認為應該定期換油。否則，在進行維護時，泵的轉(zhuǎn)子可能會嚴重磨損。比如有些軸承工件被夾住，就要更換軸承;否則壞了，問題就嚴重了，可能會出現(xiàn)電機燒毀等問題。

真空鍍膜機的污染物可以定義為“任何一種無用的物質(zhì)或能量”。多弧離子鍍膜機根據(jù)污染物的物理狀態(tài)可分為固態(tài)、氣態(tài)和液態(tài)，污染物以薄膜或顆粒的形式存在。就其化學特性而言，它可以是離子態(tài)或共價態(tài)，無機態(tài)或有機態(tài)。

真空是支撐真空鍍膜機運行的環(huán)境，尤其是需要高真空度的設(shè)備。通常，我們需要達到高的真空度，而抽氣系統(tǒng)的功能是不可缺少的。但是除了抽氣系統(tǒng)之外，真空鍍膜設(shè)備的操作還有一點，就是工件的脫氣。有些工件內(nèi)部有大量氣體和水分，在設(shè)備加熱時會排入真空室，降低真空度。更有甚者，有些氣體含有有毒成分，直接破壞真空室內(nèi)部機械結(jié)構(gòu)，導致設(shè)備無法正常運行。

工件常用的除氣方法是烘烤。工件中的氣體和水分通過加熱排出。涂裝前，工件邊抽邊加熱。當工件中的水分和氣體因受熱而釋放出來時，它們與真空室中的氣體一起被真空泵抽出。針對不同的工件采取不同的脫氣措施，可以有效控制工件內(nèi)部氣體和水的排放，提高涂層的穩(wěn)定性和均勻性。