化學組分上的均勻性： 就是說在薄膜中，化合物的原子組分會由于尺度過小而很容易的產生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過程不科學，那么實際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學成分，這也是真空鍍膜的技術含量所在。 具體因素也在下面給出。

濺射鍍膜又分為很多種，總體看，與蒸發(fā)鍍膜的不同點在于濺射速率將成為主要參數(shù)之一。濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對較差（因為是脈沖濺射），晶向（外沿）生長的控制也比較一般。

多功用磁控濺射鍍膜系統(tǒng)，由真空鍍膜系統(tǒng)和手套箱系統(tǒng)集成而成，可在高真空蒸鍍腔室中完結薄膜蒸鍍，并在手套箱高純惰性氣體氣氛下進行樣品的寄存、制備以及蒸鍍后樣品的檢測。蒸騰鍍膜與手套箱組合，實現(xiàn)蒸鍍、封裝、測驗等工藝全封閉制造，使整個薄膜生長和器材制備過程高度集成在一個完整的可控環(huán)境氣氛的系統(tǒng)中，消除有機大面積電路制備過程中大氣環(huán)境中不穩(wěn)定因素影響，保障了高功用、大面積有機光電器材和電路的制備。

塑膠具有易成型，價格便宜，質量輕，防腐蝕等長處，但塑膠的缺陷也比較，其缺陷也制約了塑膠的應用規(guī)模，如不美觀、易老化、機械功能差、易碎易變型、耐熱差等。經(jīng)過真空鍍膜機的應用，使塑膠外表鍍上特定膜層，東莞匯成真空自主研制出產的蒸發(fā)真空鍍膜設備將鍍膜機資料和塑膠產呂結合，大大提高了塑膠制品的物理、化學功能。

暴露在空氣中的真空鍍膜機表面容易受到污染。污染源有很多，初的污染通常是地表本身的一部分。吸附現(xiàn)象、化學反應、浸出干燥過程、機械處理、擴散和偏析過程都增加了各種組分的表面污染物。真空材料表面的常見污染物如下。

　?、儆椭?潤滑劑、切削液、真空油脂等。在加工、組裝和操作過程中被污染;

　?、谒?操作時的手汗、吹氣時的水蒸氣、唾液等。

　?、郾砻嫜趸?材料長時間放置在空氣中或潮濕空氣中形成的表面氧化物;

　?、芩?、堿、鹽類物質:清洗時的殘留物質、手汗、水中的礦物質等。

　　⑤環(huán)境空氣中的拋光殘渣、灰塵和其他有機物等。

前期清洗真空鍍膜機可以減少很多麻煩，避免濺射鍍膜機的很多小問題，對真空鍍膜機的工作效率和鍍膜質量有非常積極的作用。它可以大大提高真空系統(tǒng)中所有壁面和其他部件表面在各種工況下的工作穩(wěn)定性。這些工作條件包括:高溫、低溫以及電子、離子、光子或重粒子的發(fā)射和轟擊。