分散盤帶動(dòng)研磨介質(zhì)高速運(yùn)動(dòng)而產(chǎn)生摩擦和剪切，使物料得到研磨和分散。研磨室采用強(qiáng)制冷卻。有臥式砂磨機(jī)及立式砂磨機(jī)之分，如圓筒形環(huán)隙式砂磨機(jī)和塔式砂磨機(jī)等。一般為濕式研磨。物料在旋轉(zhuǎn)研磨盤作用下與研磨體混合并旋轉(zhuǎn)，經(jīng)與研磨體之間及與粉碎室各部分之間產(chǎn)生的研磨、剪切而粉碎。有臥式砂磨機(jī)及立式砂磨機(jī)之分，如圓筒形環(huán)隙式砂磨機(jī)和塔式砂磨機(jī)等。一般為濕式研磨。

臥式砂磨機(jī)筒體內(nèi)的旋轉(zhuǎn)主軸上裝有多層圓盤。當(dāng)主軸轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，研磨介質(zhì)在旋轉(zhuǎn)圓盤 的帶動(dòng)下研磨壓入筒內(nèi)的漿料,使其中的固體物料細(xì)化合格的漿料穿過(guò)小于研磨介質(zhì)粒度的過(guò)濾間隙或篩孔流出。筒體部分備有冷卻或加熱裝置，以防筒內(nèi)因物料、研磨介質(zhì)和圓盤等相互摩擦所產(chǎn)生的大量的熱影響產(chǎn)品質(zhì)量，或因送入的漿料冷凝以致流動(dòng)性降低而影響研磨效能。研磨介質(zhì)可用適當(dāng)?shù)奶烊簧埃部捎昧６葹?.1～2毫米的人造玻璃珠，目前國(guó)內(nèi)外砂磨機(jī)均已使用氧化鋯珠充當(dāng)研磨介質(zhì)，氧化鋯珠本身易清潔，硬度高，比玻璃珠及天然沙更耐磨，所以目前國(guó)內(nèi)高低檔砂磨機(jī)均使用氧化鋯珠作為研磨介質(zhì)。當(dāng)給料粒度小于450微米時(shí),排料粒度可達(dá)1微米以下。這種磨機(jī)在細(xì)化物料的同時(shí),還有分散和混合作用，適于磨制染料、顏料、油漆涂料、藥物和其他懸浮液或膠懸劑等。

研磨介質(zhì)填充率從40%增加至75%時(shí)，運(yùn)行電流曲線呈上升趨勢(shì)，反映砂磨機(jī)中的研磨介質(zhì)得到充分?jǐn)噭?dòng)，能量需求變化大；填充率在75%-85%，運(yùn)行電流曲線變化平穩(wěn)，反映砂磨機(jī)中的介質(zhì)達(dá)到一個(gè)平衡點(diǎn)，能量需求穩(wěn)定；填充率大于85%，運(yùn)行電流曲線變化呈下降趨勢(shì)，反映砂磨機(jī)中的研磨介質(zhì)過(guò)量，研磨介質(zhì)與分散盤之間有滑動(dòng)現(xiàn)象，分散盤不能帶動(dòng)所有研磨介質(zhì)運(yùn)動(dòng)，能量需求降低。因此，根據(jù)砂磨機(jī)的電流變化曲線可知，研磨介質(zhì)適宜的填充率為80%。[1]