真空均質(zhì)乳化機(jī)是集混合、分散、均質(zhì)、乳化及吸粉多功能于一體的成套系統(tǒng)，帶有電控系統(tǒng)，也可配合外圍油、水相罐，真空，加熱/冷卻系統(tǒng)等使用。是生產(chǎn)藥用軟膏、膏霜、乳液等的設(shè)備。

在高粘性乳化物，特別是膏霜，軟膏，乳劑類產(chǎn)品的制造工藝中，通常成問題的是分散相的粒徑大和攪拌時(shí)把空氣混入制品中，粒徑過大導(dǎo)致乳狀物不穩(wěn)定，缺少光澤，制品中混入空氣則會(huì)使制品氣泡化，細(xì)菌污染，易氧化及外觀不光滑。針對(duì)兩大問題，我公司開發(fā)出的ZJR系列真空均質(zhì)乳化機(jī)組，由均質(zhì)攪拌器，中心葉片攪拌，刮壁攪拌各自具有的特點(diǎn)相輔相成，組合成佳的攪拌方式，以達(dá)到混合制品。采用抽真空的方式，使所生產(chǎn)的制品在攪拌過程中不再混入氣泡，從而可制造出富有光澤，細(xì)膩及延展性良好的產(chǎn)品。

砂磨機(jī)目前物料適應(yīng)性廣、為、的研磨設(shè)備，研磨腔為狹窄，撥桿間隙小，研磨能量密集，配合的冷卻系統(tǒng)和自動(dòng)控制系統(tǒng)，可實(shí)現(xiàn)物料連續(xù)加工連續(xù)出料，的提高了生產(chǎn)效率。

分散盤帶動(dòng)研磨介質(zhì)高速運(yùn)動(dòng)而產(chǎn)生摩擦和剪切，使物料得到研磨和分散。研磨室采用強(qiáng)制冷卻。有臥式砂磨機(jī)及立式砂磨機(jī)之分，如圓筒形環(huán)隙式砂磨機(jī)和塔式砂磨機(jī)等。一般為濕式研磨。物料在旋轉(zhuǎn)研磨盤作用下與研磨體混合并旋轉(zhuǎn)，經(jīng)與研磨體之間及與粉碎室各部分之間產(chǎn)生的研磨、剪切而粉碎。有臥式砂磨機(jī)及立式砂磨機(jī)之分，如圓筒形環(huán)隙式砂磨機(jī)和塔式砂磨機(jī)等。一般為濕式研磨。

運(yùn)行電流是砂磨機(jī)運(yùn)轉(zhuǎn)情況的主要考察指標(biāo)。主電機(jī)提供能量輸人，分散盤充分?jǐn)噭?dòng)研磨介質(zhì)和漿料，為其提供動(dòng)能，使?jié){料充分分散研磨，達(dá)到要求的研磨效果。在實(shí)際運(yùn)作過程中，砂磨機(jī)的運(yùn)行電流與研磨介質(zhì)和研磨料漿的質(zhì)量成正比，要砂磨機(jī)的運(yùn)行電流穩(wěn)定，就確定合理的介質(zhì)充填率、入料量和料漿黏度。
研磨介質(zhì)填充率從40%增加至75%時(shí)，運(yùn)行電流曲線呈上升趨勢(shì)，反映砂磨機(jī)中的研磨介質(zhì)得到充分?jǐn)噭?dòng)，能量需求變化大；填充率在75%-85%，運(yùn)行電流曲線變化平穩(wěn)，反映砂磨機(jī)中的介質(zhì)達(dá)到一個(gè)平衡點(diǎn)，能量需求穩(wěn)定；填充率大于85%，運(yùn)行電流曲線變化呈下降趨勢(shì)，反映砂磨機(jī)中的研磨介質(zhì)過量，研磨介質(zhì)與分散盤之間有滑動(dòng)現(xiàn)象，分散盤不能帶動(dòng)所有研磨介質(zhì)運(yùn)動(dòng)，能量需求降低。因此，根據(jù)砂磨機(jī)的電流變化曲線可知，研磨介質(zhì)適宜的填充率為80%。[1]