蝕刻（etching）又稱為光化學(xué)蝕刻，是把材料使用化學(xué)反應(yīng)或物理撞擊作用而移除的技術(shù)，可分為濕蝕刻（wet etching）和干蝕刻（dry etching）兩種類型。通常所指蝕刻也稱光化學(xué)蝕刻（photochemical etching），指通過曝光制版、顯影后，將要蝕刻區(qū)域的保護(hù)膜去除，在蝕刻時(shí)接觸化學(xué)溶液，達(dá)到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果。

早可用來制造銅版、鋅版等印刷凹凸版，也廣泛地被使用于減輕重量(Weight Reduction)儀器鑲板，銘牌及傳統(tǒng)加工法難以加工之薄形工件等的加工；經(jīng)過不斷改良和工藝設(shè)備發(fā)展，亦可以用于航空、機(jī)械、化學(xué)工業(yè)中電子薄片零件精密蝕刻產(chǎn)品的加工，特別在半導(dǎo)體制程上，蝕刻更是不可或缺的技術(shù)。

蝕刻工藝
曝光法：工程根據(jù)圖形開出備料尺寸-材料準(zhǔn)備-材料清洗-烘干→貼膜或涂布→烘干→曝光→ 顯影→烘干-蝕刻→脫膜→OK

網(wǎng)印法：開料→清洗板材(不銹鋼其它金屬材料)→絲網(wǎng)印→蝕刻→脫膜→OK

側(cè)蝕產(chǎn)生突沿。通常印制板在蝕刻液中的時(shí)間越長，（或者使用老式的左右搖擺蝕刻機(jī)）側(cè)蝕越嚴(yán)重。側(cè)蝕嚴(yán)重影響印制導(dǎo)線的精度，嚴(yán)重側(cè)蝕將使制作精細(xì)導(dǎo)線成為不可能。當(dāng)側(cè)蝕和突沿降低時(shí)，蝕刻系數(shù)就升高，高的蝕刻系數(shù)表示有保持細(xì)導(dǎo)線的能力，使蝕刻后的導(dǎo)線接近原圖尺寸。電鍍蝕刻抗蝕劑無論是錫－鉛合金，錫，錫－鎳合金或鎳，突沿過度都會(huì)造成導(dǎo)線短路。因?yàn)橥谎厝菀讛嗔严聛?，在?dǎo)線的兩點(diǎn)之間形成電的橋接。

蝕刻技術(shù)其特征在于：

1.）蝕刻速率（安培/分鐘）

2.）選擇性：S=蝕刻速率材料1/蝕刻速率據(jù)說材料2對(duì)材料1比對(duì)材料2具有S的選擇性。

3.）各向異性：A=1-橫向蝕刻速率/垂直蝕刻速率

4.）欠切：如果0.8 um的線是由使用1 um的光致抗蝕劑線作為掩模的蝕刻產(chǎn)生的，那么對(duì)于該特定的蝕刻，據(jù)說工藝偏差是0.1um。
在純蝕刻中，金屬(通常是銅、鋅或鋼)板上覆蓋著一層耐酸的蠟狀底層。然后，藝術(shù)家用一根尖銳的蝕刻針在地面上刮掉他/她希望成品中出現(xiàn)的線條，從而露出裸露的金屬。然后將盤子浸入酸浴中。酸“侵蝕”暴露在外的金屬，留下沉入金屬板的線條。然后將剩余的地面從盤子上清理掉。印版上涂滿墨水，然后擦去表面的墨水，只留下蝕刻線條上的墨水。
金屬蝕刻加工要注意哪些?

　　1、要加工的金屬零件形狀復(fù)雜，如很薄的不銹鋼網(wǎng)片就是一個(gè)很典型的例子。通過使用蝕刻技術(shù)能降低成型難度及加工成本。

　　2、如果您的產(chǎn)品非常薄(厚度在0.03mm--1mm之間)，采用其它工藝的話，也許會(huì)造成產(chǎn)品變形。而蝕刻卻能產(chǎn)品不變形。一般情況下，越薄的產(chǎn)品，精密度就越高。

　　3、蝕刻加工過程不會(huì)改變金屬材料的硬度、強(qiáng)度、可成型性等物理性質(zhì)。

　　4、有些金屬材料在沖壓過程中易開裂，且易產(chǎn)生卷邊的毛剌，影響產(chǎn)品的裝配，而蝕刻能這些材料完好無損。

　　5、磁性軟料在蝕刻加工后可保持它們原本的物理性質(zhì)。

　　6、蝕刻加工出來的產(chǎn)品無毛刺。
蝕刻加工能夠用于在金屬、塑料、玻璃等材料表面制作出文字和圖案。這一過程也被稱為蝕刻加工。蝕刻技術(shù)被廣泛應(yīng)用在制作標(biāo)識(shí)、商標(biāo)、圖案等。通過選擇合適的蝕刻劑和工藝參數(shù)，還能實(shí)現(xiàn)對(duì)材料表面的保護(hù)和加工，使其具有更強(qiáng)的耐腐蝕性、耐磨損性等特性。
蝕刻的必要性主要在于它能夠通過化學(xué)或電化學(xué)作用，將金屬或其他材料的表面轉(zhuǎn)化為所需要的形狀和圖案。這種技術(shù)不僅能夠大大簡化產(chǎn)品的制造過程，還可以提高產(chǎn)品的質(zhì)量和一致性。通過選擇合適的蝕刻劑和工藝參數(shù)，還能實(shí)現(xiàn)對(duì)材料表面的保護(hù)和加工，使其具有更強(qiáng)的耐腐蝕性、耐磨損性等特性。