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濺射鍍膜又分為很多種，總體看，與蒸發(fā)鍍膜的不同點(diǎn)在于濺射速率將成為主要參數(shù)之一。濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對(duì)較差（因?yàn)槭敲}沖濺射），晶向（外沿）生長(zhǎng)的控制也比較一般。
真空是支撐真空鍍膜機(jī)運(yùn)行的環(huán)境，尤其是需要高真空度的設(shè)備。通常，我們需要達(dá)到高的真空度，而抽氣系統(tǒng)的功能是不可缺少的。但是除了抽氣系統(tǒng)之外，真空鍍膜設(shè)備的操作還有一點(diǎn)，就是工件的脫氣。有些工件內(nèi)部有大量氣體和水分，在設(shè)備加熱時(shí)會(huì)排入真空室，降低真空度。更有甚者，有些氣體含有有毒成分，直接破壞真空室內(nèi)部機(jī)械結(jié)構(gòu)，導(dǎo)致設(shè)備無(wú)法正常運(yùn)行。
與傳統(tǒng)的鍍膜方法相比，真空鍍膜屬于干法鍍膜，其主要方法有以下幾種:
1.真空蒸發(fā)
其原理是在真空條件下，用蒸發(fā)器加熱蒸發(fā)材料使其蒸發(fā)或升華，蒸發(fā)的離子流直接射向基片，在基片上沉積固體薄膜。
2.濺射涂層
濺射鍍膜是一種真空條件，在陰極施加2000V高壓激發(fā)輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極噴出原子。濺射的原子通過(guò)惰性氣氛沉積在襯底上形成薄膜。17_副本.jpg
3.離子電鍍法
即干式螺桿真空泵制造商已經(jīng)推出的真空離子涂層。它是在上述兩種真空鍍膜技術(shù)的基礎(chǔ)上發(fā)展起來(lái)的，所以具有兩者的工藝特點(diǎn)。在真空條件下，工作氣體或蒸發(fā)物質(zhì)(膜材料)通過(guò)氣體放電被部分電離，蒸發(fā)物質(zhì)或其反應(yīng)物在離子轟擊下沉積在基片表面。在成膜的過(guò)程中，襯底總是受到高能粒子的轟擊，這使得它非常干凈。
4.真空卷繞涂層
真空鍍膜是通過(guò)物理氣相沉積在柔性基板上進(jìn)行連續(xù)鍍膜的技術(shù)，以實(shí)現(xiàn)柔性基板的某些功能性和裝飾性。
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