用途：在洗滌劑、護膚品中作為抗氧化輔助成分（非功能性描述，僅為工藝添加）。
用法：配制成 1%~3% 的水溶液，在產(chǎn)品生產(chǎn)后期低溫階段加入，避免高溫破壞結(jié)構(gòu)。
用量：配方中占比 0.05%~0.2%。

還原型谷胱甘肽為白色結(jié)晶或結(jié)晶性粉末，無臭，有微甜味。它易溶于水、稀醇、液態(tài)氨和二甲基甲酰胺，不溶于乙醇、醚和丙酮。

金屬加工助劑：
用途：在電鍍、金屬清洗工藝中作為絡(luò)合劑，去除溶液中的金屬離子雜質(zhì)。
用法：溶解于水基體系中，與 EDTA、檸檬酸等復(fù)配，使用濃度為 0.1~0.5 g/L。